ZN-165-13高溫真空熱處理爐主要指標(biāo)：

1.高溫度：1300℃

2.極限真空度：6.67×10-4Pa

3.壓升率：≤0.1Pa/小時（遠高于國家指標(biāo)）

4.爐溫均勻性：±5℃

5.加熱元件：鉬

6.保溫層：鉬及不銹鋼金屬反射層

ZN-165-13高溫真空熱處理爐

詳細描述：

產(chǎn)品用途及特點：

該爐為臥式爐結(jié)構(gòu)，適用于大型鋼件或不銹鋼等在高溫下進行高真空熱處理或高真空釬焊處理。

具有極限真空度高、漏氣率極低、爐溫均勻性佳等特點。

ZM-8-16高溫真空熱處理爐

ZM-25-16高溫真空熱處理爐

ZM-36-10高溫真空熱處理爐

ZM-40-16高溫真空熱處理爐

ZM-42-15高溫真空熱處理爐

ZM-45-16高溫真空熱處理爐

ZM-66-12高溫真空熱處理爐

ZM-78-12高溫真空熱處理爐

設(shè)備用途：

本設(shè)備適用于金屬材料（如純鐵等軟磁材料）的真空退火，也適用于金屬粉未的真空或保護氣氛燒結(jié)。同時也適用于晶體材料的脫氣或退火處理。

設(shè)備簡介：

采用立式結(jié)構(gòu)，鉬絲或鎳鉻絲為加熱元件，全金屬隔熱反射屏保溫。由于本公司的隔熱屏具有du創(chuàng)性結(jié)構(gòu)，高溫長期使用變形小，長的用戶己連續(xù)使用近七年未更換過，大大節(jié)省了生產(chǎn)成本或維修費用。

主要技術(shù)參數(shù)：

ZR75-11外熱式真空電阻爐

詳細描述:

本設(shè)備為外熱式真空電阻爐，爐罐抽真空，被處理工件放置在爐罐內(nèi)，加熱元件及爐襯在空氣中，具有結(jié)構(gòu)緊湊，價格較低等特點。

主要用于：磁性材料，高溫合金，電子器件，金屬材料等在真空或保護氣氛下進行熱處理，可達到光亮處理的目的。

ZR-54-6真空除氣爐

產(chǎn)品參數(shù)：

1.額定功率：54KW

2.工作區(qū)尺寸：800*800*40料盤20個

3.工作溫度：600℃

4.極限真空度：10-3Pa

采用箱式爐結(jié)構(gòu)，爐內(nèi)設(shè)有爐罐，真空系統(tǒng)為油擴散泵及機械泵。

設(shè)有快速冷卻裝置，提高工作效率。

詳細描述：

適用于金屬材料的高真空除氣或低溫回火。

ZW-145-18大尺寸真空鎢絲爐

詳細說明：

本設(shè)備為鐘罩式結(jié)構(gòu)，鎢網(wǎng)發(fā)熱，爐內(nèi)料臺固定，發(fā)熱體及隔熱屏隨爐體升降。采用頂、底及圓周六面加熱， 分三區(qū)控溫。溫度均勻性佳，配有進口分子泵及國際真空閥門，全不銹鋼爐殼，gao端產(chǎn)品。

主要參數(shù)：

額定功率：145KW

高溫度：1800oC

工作區(qū)尺寸：?350*400

極限真空度：8*10-5Pa

壓升率：0.2P a/小時

溫度均勻性：±5oC

RG-3-8硒化爐

詳細描述：

此設(shè)備主要用于銅銦鎵硒(CIGS)薄膜太陽能電池的硒化反應(yīng)處理。

CIGS薄膜太陽能電池首先用磁控濺射制備出銅銦鎵(CIG)薄膜預(yù)制層，然后在此設(shè)備中用固態(tài)硒源實現(xiàn)硒化處理，從而反應(yīng)生成CIGS薄膜太陽能吸收層。

設(shè)備特點：

1、過濾器采用德國萊寶公司結(jié)構(gòu)制作，吸附力強，便于取出清理和更換濾芯。

2、我公司采用國內(nèi)的氦質(zhì)譜真空檢漏儀進行壓升率檢測，可保證技術(shù)指標(biāo)的可信和準確，壓升率指標(biāo)接近或低于國標(biāo)的小值。

主要技術(shù)參數(shù)：

1、額定功率：3 Kw±10%

2、額定溫度：A區(qū)230 ℃、B區(qū)800 ℃

3、冷態(tài)極限真空度：6.67×10-3 Pa(在100℃溫度以下允許抽真空)

4、壓升率：2.0 Pa/h

5、工作區(qū)尺寸：Φ100×600 mm（直徑×長）

6、控溫區(qū)數(shù)：3區(qū)

7、保護氣氛：氬氣

9、充氣壓力：≤500 Pa

10、電源：三相  380V  50Hz

ZG-450D多晶硅鑄錠爐

技術(shù)參數(shù)：

1.額定功率：200KW  

2.常用溫度：1500℃，高溫度：1600℃

3.冷態(tài)極限真空度：＜1Pa 

4.坩堝尺寸：870×870×420（L×W×H）mm

5、大鑄錠重量:450Kg

6.移動隔熱屏大位移量：380（mm）

7.移動隔熱屏提升速度：5～100mm/h(可調(diào))

詳細描述：

設(shè)備用途：本設(shè)備采用電阻加熱方式，底部進出料結(jié)構(gòu)。一次裝入多達450Kg/500kg（視坩堝尺寸而定）多晶硅原料，用于多晶硅料的鑄錠。

設(shè)備特點：

1、爐底設(shè)有防漏硅裝置及防爆裝置；

2、溫度梯度好，拉出硅棒效果好，雜質(zhì)少；

3、爐底升降采用機械傳動機構(gòu)，定向結(jié)晶通過爐內(nèi)升降機構(gòu)，伺服機構(gòu)保溫罩升降平穩(wěn)，操作方便；

4、一種帶可升降式保溫罩的多晶硅鑄錠爐；一種帶水冷式雙電極和軟電纜的多晶硅爐；

90kg多晶硅鑄錠提純爐ZG-90

設(shè)備特點：

本設(shè)備為立式結(jié)構(gòu)，具有高真空、充氣及高溫熔化定向凝固等功能，是多晶硅原料熔化及成錠的優(yōu)選設(shè)備，在添加等到離子加熱源后可滿足部分提純要求。設(shè)備具有自動控溫、快速升溫冷卻、快速升降取錠、超壓保護等功能，同時設(shè)有操作平臺方便操作及維護。

技術(shù)參數(shù)：

實驗用8kg多晶硅鑄錠爐ZT-40-16D

研發(fā)背景：

應(yīng)某大學(xué)硅材料國家重點實驗室要求，本公司新研發(fā)了一臺小型實驗室專用多晶硅鑄錠爐，此設(shè)備具有如下特點：

1.具有當(dāng)今市場主流鑄錠爐的一切功能，包括實現(xiàn)全自動運行。

2.具有生產(chǎn)周期短，能耗低，實驗成本節(jié)約的特點。

3.增加了部分新功能，除鑄錠以外，還實現(xiàn)部分提純功能。

技術(shù)參數(shù)：

1.功率：40KW

2.坩堝容量：標(biāo)準10英寸

3.高溫度：1550度

4.極限真空度：10-1Pa

5.保溫罩上移距離：200mm

6.爐底大位移：800mm

7.進出料方式：爐底進出

8.加熱元件：石墨管加熱

9.保護功能：除了超壓自動泄壓、漏硅聲光報警、更有*的漏硅保護措施，確保操作安全。

10.常用溫度：1550℃

11.高溫度：1600℃

12．控制方式：可控硅調(diào)功+大電流變壓器

13．控溫精度：±3℃

14．石英坩堝尺寸：198×198×200mm(L×W×H)

15．鑄錠重量：2-8KG

16．保溫桶大位移：200mm

17．空爐冷態(tài)極限真空度：≤6.67×10-1Pa

18．保溫層移動速度：0.5-25mm /小時(可調(diào))

19. 空爐冷態(tài)壓升率：≤2 Pa/h

ZT-180-16石墨化爐

設(shè)備主要用途：

主要用于多晶硅生產(chǎn)線中后處理設(shè)備，系為還原爐石墨電極后處理之用，當(dāng)石墨電極經(jīng)酸洗、高溫烘干后殘余水氣、氯化鹽等需經(jīng)高溫真空煅燒并由載氣排出爐外。設(shè)備分頂部裝料及底部裝料二種爐型供選購，配有ＰＬＣ及人機界面可實現(xiàn)全自動運行。底裝料由于其操作方便，脫氣功能強更受歡迎。一爐大裝載量：350套石墨電極。

主要技術(shù)參數(shù)：

1. 額定功率：120KW，180KW

2. 工作區(qū)尺寸：Φ500×550（石墨管加熱）

       Φ800×550（石墨棒加熱）

3. 高溫度：1650℃

4.極限真空度：6*10-3Pa

5.保護氣氛：氬氣或氮氣

6.大裝載量：350套石墨電極

7.生產(chǎn)周期：50小時/爐

結(jié)構(gòu)說明：

由爐蓋、爐體、爐底、爐架及平臺、真空系統(tǒng)及電控系統(tǒng)等組成。

特點：爐內(nèi)安裝純化石墨，2000度處理的石墨氈等組成保溫層。

全自動生產(chǎn)模式，長壽命熱電偶控溫，多點監(jiān)視溫度，底裝式方式操作方便，上爐蓋也能打開，維修方便。 

ZTD-800B單晶硅爐

ZTD-900B單晶硅爐

ZTD-950B單晶硅爐

技術(shù)參數(shù)：

設(shè)備用途：

本設(shè)備為生產(chǎn)太陽能電池用的單晶爐，坩堝尺寸18-22英寸，產(chǎn)量從60-130Kg，單晶硅棒直徑6.5-8英寸，設(shè)備高度為6.1-6.7米，主要可生產(chǎn)主流8英寸單晶硅棒。

本公司可提供生長工藝，保證生長出合格的單晶硅。設(shè)有樣機，歡迎來人參觀考察。

ZR-12-10實驗用中溫真空爐

詳細描述：

采用箱式爐結(jié)構(gòu)爐柜一體化設(shè)計，適用高?？蒲袉挝贿M行材料的真空或保護氣氛下的熱處理，爐內(nèi)設(shè)有一耐熱鋼爐罐，罐內(nèi)安裝有料臺及保溫層。

主要參數(shù)如下：

1.額定功率：12kw

2.爐罐內(nèi)尺寸：160*250*400mm

3.高溫度：1000度

4.極限真空度：＜10Pa

ZR-12-11真空電阻加熱爐

設(shè)備用途：

本設(shè)備是用鎳鉻合金絲作發(fā)熱元件的實驗用內(nèi)熱式真空熱處理爐，爐體與控制柜一體化結(jié)構(gòu)，臥式爐體，側(cè)面打開爐門，適用于金屬材料在高真空、中溫條件下進行回火、退火、釬焊、燒結(jié)、除氣處理，同時也適于金屬化合物的真空熱處理用。

設(shè)備特點：

整個設(shè)備為方形箱體結(jié)構(gòu)，臥式爐體，裝取料方便；所有動作操作均在爐體正面操作完成，操作方便，集控制柜與爐體一體化結(jié)構(gòu)，占地小，節(jié)約占地面積；耗水量少，使用方便，用戶只要水、電齊全就可以直接使用，集成安裝水、電、氣接口。

主要技術(shù)參數(shù)：

1、額定功率：12KW

2、額定使用溫度：1100℃（氣氛保護下）

3、大有效加熱空間：Φ120×200㎜

4、冷態(tài)極限真空度：5×10-4 Pa

5、壓升率：≤2.0 Pa/h

6、電源：380V/50Hz

7、充氣介質(zhì)：氬氣、氮氣或少量氫氣

8、大充氣壓力：＜0.03MPa

9、控溫精度：±1℃

ZT-50-16晶體退火爐

用途：

真空晶體退火爐是用石墨作發(fā)熱元件的立式實驗用真空電阻爐，爐底裝料電動升降，供金屬化合物、陶瓷、無機化合物、納米材料等在真空或保護氣氛中燒結(jié)制品。

技術(shù)參數(shù)：

1、型式：立式，底盤下沉

2、額定功率：50±10%Kw

3、電源電壓：三相  380V  50Hz

4、高溫度：1600℃

5、工作區(qū)尺寸：Φ300×300

6、升溫速率：15℃/min

7、恒溫區(qū)溫度均勻性：≤±10℃（1400℃）

8、冷態(tài)極限真空度：6.67×10-3Pa

9、工作真空度（空爐）：5×10-2Pa

10、壓升率：≤2Pa/h

11、1路充氣管路，充氣冷卻

12、充氣壓力：＜0.03MPa（相對壓力）

102L晶體回收爐

產(chǎn)品主要技術(shù)參數(shù)：

額定溫度：300-1600℃

爐體形式：井式 二工位 （爐門電動絲桿升降及平移）

爐膛尺寸：450×450×500mm（深×寬×高）

爐膛容積：102L

額定功率：25.0KW

額定電壓：380V/1Φ/50Hz(主電壓)  220 V/1Φ/50Hz（控制電壓）

升溫時間：≤100min

加熱元件：硅鉬棒

爐膛材質(zhì)：1700（溫度等級）/300（密度）氧化鋁纖維（日資阿爾賽）

保溫材料：1500/250  1260/250氧化鋁纖維（日資阿爾賽）

爐口爐門材料：TJM30標(biāo)磚

溫控形式：SCR(可控硅移相調(diào)壓) 可編程序智能PID

控溫精度：≤±1.0℃

GR周期式回轉(zhuǎn)爐

詳細描述：

本設(shè)備為周期作業(yè)式，主要用于化學(xué)催化劑粉體、陶瓷粉體、金屬顆粒或粉料等在氧化或還原性氣氛下進行焙燒。

主要技術(shù)特點：

1.額定功率：30-90KW

2.裝料量：10-30Kg（按堆比重計算）

3.高溫度：1000℃

4.爐罐回轉(zhuǎn)速度：0-6轉(zhuǎn)/分

5.爐體側(cè)角：±30°可調(diào)

6.保護氣氛：氫氣或氮氣

7.爐壓：500Pa

結(jié)構(gòu)說明：

電爐由爐體、回轉(zhuǎn)爐罐、爐罐支承、爐罐回轉(zhuǎn)機構(gòu)、爐體傾斜機構(gòu)、保護氣氛裝置、快速冷卻機構(gòu)等組成。

爐體由碳鋼焊接制成，內(nèi)襯保溫層、發(fā)熱元件采用電阻絲，布置在爐罐周圍，加熱溫度均勻。

回轉(zhuǎn)爐罐由耐高溫不銹鋼310S焊接而成，一側(cè)進出料，另一側(cè)充入保護氣氛，進料側(cè)還兼排氣。

爐罐支架為前后雙結(jié)構(gòu)，設(shè)有固定結(jié)構(gòu)。

爐罐回轉(zhuǎn)機構(gòu)：爐罐回轉(zhuǎn)采用減速機+調(diào)速電機

爐體傾斜機構(gòu)：采用蝸輪減速機構(gòu)

保護氣氛裝置：由流量計、進氣閥、旋轉(zhuǎn)出氣閥等組成。

電控系統(tǒng)主回路采用SSR執(zhí)行，進口儀表爐溫控制。

RT臺車式電阻爐

詳細描述： 

適用于熱處理淬火、退火及回火。

臺車式進出，裝卸料方便。

重型裝備設(shè)計，使用壽命長。

新型復(fù)合結(jié)構(gòu)，節(jié)能效果明顯。

升降式臺車爐

詳細描述：

本產(chǎn)品在傳統(tǒng)臺車式電爐的基礎(chǔ)上進行了改進，提高了爐溫均勻度。

高溫度：1200℃（1300℃硅棒加熱）

工作區(qū)尺寸：可按要求定制

溫度均勻度：±10℃

臺車的升降：機械電動升降

臺車的進出：電機經(jīng)減速驅(qū)動

爐襯材料：日本品牌純纖維棉制成，節(jié)能保溫性佳，壽命長

控溫區(qū)：三區(qū)

RX-30-7Q保護氣氛箱式爐（低溫）

用途：

本產(chǎn)品為周期作業(yè)式電爐，產(chǎn)品從爐底裝料，供一般金屬或其它材料在保護氣氛中進行低溫?zé)崽幚砑訜嶂茫驹O(shè)備具有內(nèi)循環(huán)快冷，因此可滿足某種功能材料的熱處理。

主要技術(shù)參數(shù)：

1.額定功率：30KW

2.電壓：380V

3.高溫度：700℃

4.爐溫均勻性：±5℃

5.工作區(qū)尺寸：Φ450×600×450

6.大裝裁量：50Kg

7.充氣壓力：0.06MPa

8.冷卻速度（300℃-80℃）：小于2小時

結(jié)構(gòu)說明：

電爐采用箱式爐結(jié)構(gòu)主義，爐內(nèi)放置一爐罐，為保證爐溫均勻，特設(shè)有一循環(huán)風(fēng)機及導(dǎo)風(fēng)系統(tǒng)，在爐罐后側(cè)還設(shè)有一熱交換器，在降溫過程中能提高冷卻速度。為了進一步加快爐體冷卻，爐底還設(shè)有一冷卻風(fēng)機，爐底設(shè)有排風(fēng)系統(tǒng)，能在設(shè)定溫度時打開爐體冷卻風(fēng)機將爐襯的熱量盡快排出爐體。

本設(shè)備具有結(jié)構(gòu)緊湊，外形美觀，操作簡便等優(yōu)點。設(shè)備所有動作均由PLC自動控制來實現(xiàn)。

溫度控制主電路采用可控硅模塊SSR控制，控溫儀表采用美國進口數(shù)顯程序調(diào)節(jié)儀，SSR輸出、P.I.D控制，爐罐內(nèi)設(shè)監(jiān)控?zé)犭娕技芭涮變x表。

RXQ保護氣氛密封箱式電阻爐

設(shè)備用途：

本產(chǎn)品主要供大專院校、科研單位及生產(chǎn)企業(yè)在保護氣氛條件下對金屬材料（如不銹鋼、鎳基合金、銅、合金鋼)進行無氧化熱處理，也可進行部分化學(xué)熱處理。

主要技術(shù)參數(shù)：

1.電源功率：15KW

2.額定電壓：380V

3.高溫度：950℃

4.工作區(qū)尺寸：200×250×500

5.爐溫均勻性：±10℃

6.充入保護氣氛：氮氣

結(jié)構(gòu)說明：

本產(chǎn)品由爐體、爐門、爐罐、充氣系統(tǒng)、及控制系統(tǒng)等組成。

爐體為箱式電阻爐結(jié)構(gòu)，爐門采用手動打開及壓緊裝置。

爐罐為Cr25Ni20材料制成，特殊結(jié)構(gòu)可防止高溫變形。

充氣系統(tǒng)采用爐后進氣，爐前排氣。

電控系統(tǒng)為可控硅SSR控制，爐內(nèi)設(shè)多點測溫，通過一臺儀表可監(jiān)測多點溫度，實現(xiàn)爐溫均勻性的動態(tài)觀察。進口儀表控溫精度高。

氣氛保護回轉(zhuǎn)窯

詳細描述：

主要用于金屬粉體材料在保護氣氛的回轉(zhuǎn)鍛燒之用。

主要技術(shù)參數(shù)：

1、額定溫度：1000度

2、工作區(qū)尺寸:220*2000mm

3、充氣介質(zhì)：氬氣

4、加熱區(qū)： 1區(qū)

5、充氣壓力：1000Pa

GR-200-3周期式氣氛保護回轉(zhuǎn)窯

主要用途：

主要適用于化工行業(yè)催化劑載體氧化性處理。設(shè)備為周期式工作方式。

設(shè)備特點：

1、爐襯采用優(yōu)質(zhì)的全纖維節(jié)能結(jié)構(gòu)，使?fàn)t體的能耗大幅降低，保溫性能好。

2、發(fā)熱元件采用管狀加熱器，安裝維護方便，可以在不停爐狀態(tài)下更換發(fā)熱體，不影響生產(chǎn)，提高產(chǎn)量。

3、爐管旋轉(zhuǎn)平衡性佳：采用了*旋轉(zhuǎn)支撐機構(gòu)，保證了爐管旋轉(zhuǎn)的平衡性。

4、使用壽命長：此爐設(shè)計安裝了*平移機構(gòu)，保證爐管在受熱伸長下的使用壽命。

設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、額定功率：200 kw

2、使用溫度：350 ℃

3、有效加熱工作尺寸：Ф1100×4300 ㎜

4、電源：3相、380V、50Hz

5、加熱分區(qū)：4區(qū)單獨控制

6、爐管回轉(zhuǎn)速度: 1～6r/min

7、爐體傾斜角：1-15°（可調(diào)）

8、控溫精度：±2℃

9、投料量：1000kg/d

RG-75-9Q保護氣氛滾筒爐周期式

詳細描述：

一、設(shè)備主要用途：本設(shè)備為周期作業(yè)式，主要用于化學(xué)催化劑粉體、鋰電池原料、陶瓷粉體、金屬顆粒或粉料等在氧化或還原性氣氛下進行焙燒。

二、主要技術(shù)參數(shù)：

1、額定功率：75KW

2、額定溫度：950 ℃

3、電源：三相380V 50Hz

4、有效裝料尺寸 ф670×1130㎜（直徑*高）

5、溫控區(qū)：一區(qū)

6、控溫精度：±1℃

7、空爐升溫時間： 0-1.5h

8、裝爐量：按比重1計算）

9、保護氣氛：N2

大批量生產(chǎn)用氣氛保護回轉(zhuǎn)窯GR-400-9

設(shè)備用途：

適用于無機鹽粉體材料，如磷酸鐵鋰、碳酸鋰、碳酸錳、碳酸鋇，金屬粉體等在氧化性（如空氣）

或還原性氣氛（如氮氫混合氣）下的焙燒反應(yīng)，也適用于化工行業(yè)催化劑載體氧化性處理。

本公司可提供從實驗到生產(chǎn)使用的各型號設(shè)備。

設(shè)備特點：

1、此設(shè)備采用*的柔性密封，在受熱伸長及微量變形仍能保持良好的密封性，爐內(nèi)氣壓可達2000Pa以上。

2、此設(shè)備可保證物料在保護氣氛下進料、出料及焙燒，不與空氣接觸，從而保證了反應(yīng)物料質(zhì)量。

3、此設(shè)備前后采用了*旋轉(zhuǎn)支撐機構(gòu)，從而保證了爐管旋轉(zhuǎn)的平衡性。

4、此設(shè)備設(shè)計安裝了*平移機構(gòu)，保證了爐管在受熱伸長下的使用壽命。

5、此設(shè)備安全使用壽命長。

6、此設(shè)備為連續(xù)式爐，生產(chǎn)率高（生產(chǎn)率比其他同類產(chǎn)品高出一倍以上）。

7、配有PLC、觸摸屏和專用監(jiān)控軟件，功能升級無極限；能顯示當(dāng)前的工作狀態(tài)、溫度等變化。

配有數(shù)據(jù)庫及圖形趨勢顯示分析軟件。

充氣壓力自動控制，實現(xiàn)微正壓氣壓自動控制燒結(jié)。

技術(shù)參數(shù)：

1、額定功率：400KW

2、額定溫度：850 ℃

3、溫控區(qū)：六區(qū)

4、爐管有效尺寸（內(nèi)徑×長度）：￠900×9000（mm）（36＂）

5、爐管轉(zhuǎn)速度：1～6 r/min

6、爐體傾斜角：0～3°

7、氣氛：空氣/氮氣

8、耗氣量：20-30m3/h

9、產(chǎn)量：根據(jù)物料比重和停留時間而定

10、電源：380V 50HZ  三相四線制

TBR-180-9氣氛保護推板窯

17米氣氛保護推板窯－鋰電正極材料專用設(shè)備TBR-180-9

用途：

本設(shè)備主要適用于新能源動力電池的粉體材料（如磷酸鐵鋰）在保護氣氛下的焙燒處理

以及電子陶瓷元件（PTC、NTC）等的排膠、預(yù)燒、燒結(jié)及退火等生產(chǎn)工藝。

結(jié)構(gòu)特點：

此設(shè)備具有無任何金屬雜質(zhì)污染，前后過渡室預(yù)抽真空、節(jié)能性能優(yōu)異、自動化程度高、

氧含量低等特點，是國內(nèi)大批量工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備。

技術(shù)參數(shù)：

32米預(yù)抽真空氣氛保護推板窯TBR-280-9

設(shè)備用途

本設(shè)備主要適用于新能源動力電池的粉體材料（如磷酸鐵鋰）在保護氣氛下的焙燒處理以及電子陶瓷元件（PTC、NTC）等的排膠、預(yù)燒、燒結(jié)及退火等生產(chǎn)工藝。

此設(shè)備具有無金屬雜質(zhì)污染、節(jié)能性能優(yōu)異、自動化程度高、氧含量低等特點，是國內(nèi)大批量工業(yè)化生產(chǎn)的理想設(shè)備。

1、拒絕金屬污染:加熱元件采用套有保護套的電阻絲，有效避免電阻絲和物料的接觸，也避免電阻絲被腐蝕產(chǎn)生的反應(yīng)物污染物料。

2、采用預(yù)抽真空模式:采用機械泵抽真空縮短氣室氣氛建立的時間，有效降低氮氣的消耗，同時大大增加設(shè)備產(chǎn)量。

3、設(shè)備能耗低：通過機械泵抽真空，快速抽取氣室內(nèi)空氣，省去通過通入大量氮氣排除氣室內(nèi)空氣環(huán)節(jié)，有效降低氮氣消耗。

4、物料一致性高：物料燒結(jié)時間一致，產(chǎn)品一致性高。

5、物料純度高：通過使用料舟盛料，有效避免物料和金屬的接觸污染；加熱元件套有石英玻璃保護管也避免加熱元件接觸污染物料。

主要技術(shù)參數(shù)：

1、大升溫功率：280KW

2、使用溫度：700-800℃  

3、控溫精度：±2℃

4、表面溫升：小于35℃

5、氧含量：≤10ppm

6、爐口尺寸：700×240㎜

7、推板尺寸：340×340×30㎜

8、推力：7T       

9、推進器：全自動循環(huán)線液壓推進器

10、工作模式：預(yù)抽真空

11、氮氣消耗：＜30m3/h

GR-220-8氣氛保護回轉(zhuǎn)窯

生產(chǎn)用-24英寸氣氛保護回轉(zhuǎn)窯GR-220-8

詳細描述：

生產(chǎn)用氣氛保護回轉(zhuǎn)式電爐（回轉(zhuǎn)窯）GR-220-8，￠610*6100MM（直徑*長）

用途：

此回轉(zhuǎn)窯主要適用于新能源動力電池的無機鹽粉體材料（如磷酸鐵鋰、鈷酸鋰、碳酸錳、碳酸鋇）、金屬粉體等在保護氣氛下進行焙燒反應(yīng)處理。

結(jié)構(gòu)特點：

此電爐設(shè)備有著變頻調(diào)速螺旋式喂料口，*的密封系統(tǒng)，真空成形陶瓷纖維或優(yōu)質(zhì)耐火磚砌筑而成的保溫層，進口控溫儀多區(qū)獨立控溫的爐體，特種耐熱鋼制成的耐熱耐腐蝕爐管以及西門子標(biāo)準制作的電控系統(tǒng)組成。它是國內(nèi)唯yi經(jīng)過五年以上應(yīng)用在鋰電池粉末焙燒的生產(chǎn)線，也是目前國際上*磷酸鐵鋰電池正極材料的焙燒設(shè)備。

技術(shù)參數(shù)：

周期式回轉(zhuǎn)窯RG-30-9Q

主要技術(shù)參數(shù)：

1、額定功率：30KW

2、額定溫度：950 ℃

3、電源：三相380V 50Hz

4、有效裝料尺寸：ф390×700㎜（直徑*高）

5、控溫區(qū)數(shù)：一區(qū)

6、控溫精度：±2℃

7、空爐升溫時間：≤2.0h

8、裝爐量：12－20kg 根據(jù)物料比重計算

9、保護氣氛：N2

10、外形尺寸：1900*2200*1750（寬*長*高） 

生產(chǎn)用-24英寸氣氛保護回轉(zhuǎn)窯

預(yù)抽真空保護氣氛箱式爐WRX-30-10

主要技術(shù)參數(shù)：

1、額定功率：30 KW

2、高溫度：1000 ℃

3、常用溫度：900 ℃

4、電源：380V、50Hz、三相

5、有效裝料區(qū)尺寸：300×600×300mm（寬×長×高）

6、爐溫均勻性考核區(qū)：250×400×250mm（寬×長×高）

7、控溫區(qū)數(shù)：一區(qū)

8、冷態(tài)極限真空度：133Pa（400℃以下允許抽真空）

9、爐溫均勻性：≤±10℃（850℃以上）

10、保護氣氛：惰性氣體

11、外形尺寸：1400×2200×1300mm（寬×長×高）

12、總重量：∽2500Kg

真空保溫箱

技術(shù)參數(shù)：

正常使用溫度：300℃~350℃

恒溫功率:～4KW

加熱功率：18KW，220V單相

溫度均勻性：≤±10℃

加熱元件：不銹鋼加熱板

加熱區(qū)數(shù): 3區(qū)

內(nèi)部承重：∽600Kg

設(shè)備用途：

本真空保溫箱為鈉硫電池模塊的輔助裝置，具有加熱、保溫、功率調(diào)節(jié)等功能，具有溫度均勻性好、接線方便、，以保障鈉硫電池模塊的正常、安全運行。同時該真空保溫箱還具有結(jié)構(gòu)緊湊、使用方便、美觀大方等特點。

中試用-氣氛保護回轉(zhuǎn)窯GR-75-9

主要技術(shù)參數(shù)：

1.高溫度：1050℃

2.使用溫度：950℃

3.使用氣氛：氮氣/空氣

4.爐管尺寸φ310x3100（mm）

5.加熱方式：鎳鉻合金絲加熱

6.保溫材料：陶瓷纖維；

7.溫區(qū)數(shù)：3區(qū)

8. 爐管材料：SUS310S耐熱不銹鋼

9.爐管轉(zhuǎn)速：1~6 r/min無級變頻調(diào)速，由轉(zhuǎn)動電機、減速機、齒輪傳動裝置、鏈條傳動裝置等構(gòu)成，可實現(xiàn)自動和手動轉(zhuǎn)換；

10.表面溫升溫：≤室溫+35℃

11.大功率：75KW

12.保溫功率：45KW

13.報警系統(tǒng): 整窯設(shè)有過載、爐管停轉(zhuǎn)、超溫等報警保護功能；

14. 控制方式：PLC和觸模屏

主要適用于電子材料，如鈦酸鋇、碳酸鍶、碳酸壩、碳酸鈣、二氧化鈦、二氧化鋯、氧化鋁，石墨類和鈷酸鋰、錳酸鋰、鎳酸鋰、磷酸鐵鋰、三元材料鋰電池粉體材料等生產(chǎn)用設(shè)備；

磁性材料：NFC、鎳梓鐵氧體、錳鋅鐵氧體等生產(chǎn)用設(shè)備；

KY法晶體生長爐

30kg級晶體生長爐

詳細描述：

凱氏長晶法(Kyropoulos method),簡稱KY法,又稱之為泡生法.其原理與柴氏拉晶法(Czochralskimethod)類似，先將原料加熱至熔點后熔化形成熔湯，再以單晶之晶種(SeedCrystal，又稱籽晶棒)接觸到熔湯表面，在晶種與熔湯的固液界面上開始生長和晶種相同晶體結(jié)構(gòu)的單晶，晶種以極緩慢的速度往上拉升，但在晶種往上拉晶一段時間以形成晶頸，待熔湯與晶種界面的凝固速率穩(wěn)定后，晶種便不再拉升，也沒有作旋轉(zhuǎn)，僅以控制冷卻速率方式來使單晶從上方逐漸往下凝固，后凝固成一整個單晶晶碇. 我司可提供30kg級、70kg級設(shè)備。

ZWJ高溫晶體生長爐

詳細描述：

此項目為高溫氧化物晶體生長設(shè)備，為國內(nèi)用戶定制。爐體鐘罩式升降，放置坩堝和維護熱場。

底部坩堝升降，籽晶在坩堝底部，坩堝桿帶水冷。

采用分子泵或油擴散泵，控制系統(tǒng)帶有PLC和摸觸屏。

ZTD-800B單晶硅爐

ZTD-900B單晶硅爐

ZTD-950B單晶硅爐

設(shè)備用途:

本設(shè)備為生產(chǎn)太陽能電池用的單晶爐，坩堝尺寸18-22英寸，產(chǎn)量從60-130Kg，單晶硅棒直徑6.5-8英寸，設(shè)備高度為6.1-6.7米，主要可生產(chǎn)主流8英寸單晶硅棒。

本公司可提供生長工藝，保證生長出合格的單晶硅。設(shè)有樣機，歡迎來人參觀考察。

技術(shù)參數(shù):

ZW-50-20鎢網(wǎng)燒結(jié)爐

主要技術(shù)參數(shù)：

1.額定功率：50KW

2.額定電壓：380V

3.Max.溫度：2000℃

4.工作區(qū)尺寸：Φ140*200

5.極限真空：8*10-4Pa

6.壓升率：<3Pa/小時

7.保護氣氛：氫氣

8.加熱區(qū)：一區(qū)

ZG-80真空熔煉爐

80kg真空熔煉爐ZG-80

主要技術(shù)參數(shù)：

1.額定功率：160KW

2.額定電壓：380V

3.Max.溫度：1700℃

4.冷態(tài)極限真空：5X10-3Pa

5.保護氣氛：Ar

ZT-50-16Y真空熱壓爐

1.額定功率：50KW

2.額定溫度：1600℃

3.工作區(qū)尺寸：?250×200

4.極限真空度：5X10-2Pa

5.Max.壓力：35噸

6.大位移：雙向各100mm

7.加壓方式：雙向

8.充氣壓力：0.015MPa

SPS-60T-30-Ⅲ燒結(jié)爐

主要技術(shù)參數(shù)：

型號：SPS-60T-30-Ⅲ

1.額定功率：300KW

2.額定電壓：380V

3.Max.溫度：  2300℃

4.輸出電流：30000A

5.輸出電壓：10V

6.極限真空：5X10-2Pa

7.保護氣氛：Ar

8.Max.壓力：60T